The density of titanium is 4.506-4.516 grams per cubic centimeter (20 degree ), which is higher than that of aluminum and lower than that of iron, copper, and nickel. But the specific strength is at the top of the metal. Melting point 1668±4 degree Titanium has poor thermal conductivity and electrical conductivity, similar to or slightly lower than stainless steel, and titanium has superconductivity.
Main performance requirements of PVD Titanium Target: purity is the main performance index of target material, because the purity of target material has a great influence on the performance of the film. But in practice, the purity of target material is not the same. For example, with the rapid development of the microelectronics industry, the size of silicon wafer develops from 6 ", 8 "to 12", and the wiring width decreases from 0.5um to 0.25um,0.18um or even 0.13um. In the past, 99.995 percent of the target purity can meet the technological requirements of 0.35UMIC. The preparation of 0.18um line requires 99.999 percent or even 99.9999 percent purity of target material. Impurity content: Impurities in the solid of the target material and oxygen and water vapor in the pores are the main pollution sources of the deposited films. Different target materials for different purposes have different requirements for different impurity content.
पीवीडी टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री के लक्षण:
1, चरण बयान कोटिंग का उपयोग, उपकरण की सतह की ताकत में वृद्धि।
2, शुद्ध धातु और वैज्ञानिक उन्नत उपन्यास लक्ष्य सामग्री संरचना डिजाइन के उन्नत प्रौद्योगिकी उत्पादन का उपयोग।
3 शुद्ध धातु और मिश्र धातु लक्ष्य सामग्री, उच्च शुद्धता, उच्च घनत्व, उत्कृष्ट संरचना, लंबी सेवा जीवन का उपयोग करें।
4, उत्पाद विनिर्देश पूर्ण हैं, जिसमें परिपत्र, परिपत्र, आयताकार और ट्यूबलर आकार शामिल हैं, आकार उपयोगकर्ता की आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित किया जा सकता है।
गैर-लौह धातु, दुर्लभ धातु, यांत्रिक और विद्युत उपकरण प्रसंस्करण (गलाने को छोड़कर) और बिक्री; कंपनी के व्यवसाय के दायरे में उत्पादों के आयात और निर्यात में संलग्न होना। (कानून के अनुसार अनुमोदन के अधीन परियोजनाओं के लिए, व्यावसायिक गतिविधियों को संबंधित विभागों द्वारा अनुमोदन के बाद ही किया जा सकता है)।
मल्टी आर्क आयन मैग्नेट्रोन स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता टाइटेनियम टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य लक्ष्य सामग्री बेलनाकार टाइटेनियम लक्ष्य, टाइटेनियम प्लेट, टाइटेनियम ट्यूब लक्ष्य असंतुलित मैग्नेट्रोन स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री, टाइटेनियम अनुसंधान लक्ष्य, टाइटेनियम टाइटेनियम मैग्नेट्रोन स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री, टाइटेनियम लक्ष्य 99.99 प्रतिशत, पीवीडी टाइटेनियम लक्ष्य, आर्क टाइटेनियम लक्ष्य से अधिक, टाइटेनियम सतह लक्ष्य, वेफर सर्कुलर टाइटेनियम लक्ष्य, डीसी स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री टाइटेनियम, टाइटेनियम उच्च घने सजातीय लक्ष्य सामग्री, आयन स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री टाइटेनियम चढ़ाना, मध्यवर्ती आवृत्ति एसी प्रतिक्रियाशील स्पटरिंग, टाइटेनियम लक्ष्य के लिए टाइटेनियम लक्ष्य बंधन वेल्डिंग के लिए, आरएफ स्पटरिंग के लिए टाइटेनियम लक्ष्य, असममित पल्स स्पटरिंग के लिए टाइटेनियम लक्ष्य, आयन बीम स्पटरिंग के लिए टाइटेनियम लक्ष्य, रोटरी टाइटेनियम लक्ष्य
टाइटेनियम वर्कपीस में अपने उत्कृष्ट प्रदर्शन के कारण एयरोस्पेस और अन्य क्षेत्रों में व्यापक अनुप्रयोग संभावना है, लेकिन यह इसकी प्रसंस्करण दक्षता और उत्पादन लागत से भी प्रतिबंधित है। टाइटेनियम मिश्र धातु के विकास और विकास के साथ, टाइटेनियम सामग्री की किस्मों में वृद्धि और कीमत में कमी, नागरिक उद्योग में टाइटेनियम के आवेदन में तेजी से वृद्धि होगी, खासकर जहाज निर्माण, ऑटोमोबाइल निर्माण, रसायन उद्योग, इलेक्ट्रॉनिक्स, समुद्री विकास, बायोमेडिसिन, समुद्री जल में। अलवणीकरण, भूतापीय बिजली उत्पादन, सीवेज जंग और अन्य नागरिक क्षेत्रों का व्यापक रूप से उपयोग किया जाएगा। साथ ही, बाजार की मांग टाइटेनियम उद्योग और टाइटेनियम सामग्री प्रसंस्करण प्रौद्योगिकी के विकास में भी तेजी लाएगी।
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