टाइटेनियम मेष एनोड

टाइटेनियम एनोड की तैयारी प्रक्रिया:

कोटिंग और फायरिंग

विभिन्न उपयोगों की आवश्यकताओं के अनुसार, Ru, Ir, Sn, Ti, Pd, Ta, Co, Ni, आदि के हलाइड्स को अलग-अलग अनुपात में अल्कोहल के घोल में तैयार किया जाता है → लेपित → सूखे → ऑक्सीकृत और निकाल दिया जाता है, और आवश्यक एनोड बार-बार किए जाते हैं → गुणवत्ता निरीक्षण → वितरण।

टाइटेनियम सब्सट्रेट का भूतल उपचार

सब्सट्रेट के प्रभावी क्षेत्र को बढ़ाने और कोटिंग और टाइटेनियम सब्सट्रेट के बीच आसंजन को बढ़ाने के लिए, 10 प्रतिशत ~ 15 प्रतिशत क्षार या डिटर्जेंट का उपयोग आमतौर पर तेल निकालने के लिए उबालने के लिए किया जाता है, और फिर 10 प्रतिशत ~ 15 प्रतिशत ऑक्सालिक एसिड का उपयोग किया जाता है। खोदने के लिए उबालना।

सब्सट्रेट	जीआर 1 जीआर 2
कलई करना	1. रूथेनियम-टाइटेनियम एनोड 2. रूथेनियम-इरिडियम टाइटेनियम एनोड 3. इरिडियम-टैंटलम टाइटेनियम एनोड 4. इरिडियम-टैंटलम-टिन टाइटेनियम एनोड 5. इरिडियम-प्लैटिनम टाइटेनियम एनोड 6. प्लेटिनम टाइटेनियम एनोड 7. लीड डाइऑक्साइड टाइटेनियम एनोड
आकार	प्लेट/जाल/ट्यूब/रॉड/वायर/डिस्क या डिजाइन ड्राइंग के रूप में अनुकूलित
तकनीकी	रेत विस्फोट, एसिड धुलाई, कोटिंग ब्रशिंग, उच्च तापमान सिंटरिंग, एनीलिंग
काम के सिद्धांत	H2O=OH- प्लस H प्लस कैथोड: एच प्लस प्लस ई=एच2एच प्लस प्लस 2ईएच2↑2एच7ओ प्लस 2ई=2ओएच- प्लस एच3 2एच प्लस प्लस ई= एच2↑ एनोड: 4OH-4e=2H3O प्लस प्लस O2↑2H2O-4e=4H प्लस प्लस O2↑ 4OH-4e=2H2O प्लस O2↑
काम करने वाले उपकरण	1. जल आयोजक 2. जल इलेक्ट्रोलिसिस 3. पानी के इलेक्ट्रोलिसिस आदि के एनोड और कैथोड पर प्रतिक्रिया

सामग्री	काम का माहौल	अधिकतम कार्य (वर्तमान घनत्व)	खपत दर
उच्च सिलिकॉन लोहा	समुद्र	50A/m2	{{0}}.3-1.0 किग्रा/एए
सीसा	समुद्र	10A/m2	0.05-0.2 किग्रा/आ
	ताजा पानी, मिट्टी	10A/m2	0.16 किग्रा/आ
	ताजा पानी	2.5A/m2	0.04 किग्रा/आ
सीसा-चांदी मिश्र धातु	समुद्र	30-300A/m2	0.03 किग्रा/आ
सीसा चांदी प्लेटिनम	समुद्र	30-300A/m2	0.03 किग्रा/आ
प्लैटिनाइज्ड टाइटेनियम	समुद्र, ताजा पानी, मिट्टी	1000A/m2	6/10-6किग्रा/आ
टाइटेनियम / मिक्स मेटल ऑक्साइड	समुद्र	600A/m2	3-6/10-6किग्रा/आ

इलेक्ट्रोप्लेटिंग एप्लिकेशन फील्ड में, आवश्यक चढ़ाना धातु इलेक्ट्रोलाइट में भंग हो जाती है, प्लेटेड मेटल मैट्रिक्स को नकारात्मक इलेक्ट्रोड के रूप में उपयोग किया जाता है, और एनोड को सकारात्मक इलेक्ट्रोड के रूप में उपयोग किया जाता है, जो एक पूर्ण वर्तमान संचरण चक्र बनाता है। इलेक्ट्रोप्लेटिंग टैंक में इलेक्ट्रोप्लेटिंग के साथ-साथ होने वाली रासायनिक प्रतिक्रिया एनोड सतह पर ऑक्सीजन को अवक्षेपित करना है।

ग्रेफाइट जैसे गैर-अक्रिय एनोड्स की तुलना में, टाइटेनियम एनोड का लाभ यह है कि यह अपने सेवा जीवन के भीतर सकारात्मक और नकारात्मक इलेक्ट्रोड (इलेक्ट्रोड के बीच की दूरी) के बीच एक स्थिर दूरी बनाए रख सकता है। ग्रेफाइट एनोड धीरे-धीरे उपयोग में घुल जाएगा, जिससे इलेक्ट्रोड के बीच की दूरी में वृद्धि होगी, जबकि अक्रिय टाइटेनियम एनोड एक स्थिर वोल्टेज और उत्पाद की गुणवत्ता सुनिश्चित कर सकता है। प्लेटिनम समूह तत्वों के उत्प्रेरक गुणों के कारण, इलेक्ट्रोड सतह पर विनिमय वर्तमान घनत्व मूल्य बड़ा है, ऑक्सीजन वर्षा ओवरवॉल्टेज कम है, और एक विशेष प्रक्रिया का उपयोग एक बड़ी प्राप्त करने के लिए टाइटेनियम सतह पर एक सूक्ष्म संरचित ऑक्साइड फिल्म बनाने के लिए किया जाता है। सक्रिय सतह क्षेत्र प्रति यूनिट इलेक्ट्रोड क्षेत्र। इसलिए, यह विशेष रूप से उच्च गति और उच्च वर्तमान घनत्व विद्युत उत्पादन के लिए उपयुक्त है।

इस क्षेत्र में टाइटेनियम एनोड्स और ग्रेफाइट के अलावा लीड एनोड्स का भी उपयोग किया जा सकता है। हालांकि, जब सीसा एनोडिक घुल जाता है, तो अभिकारकों का पर्यावरण पर नकारात्मक प्रभाव पड़ेगा। अगर टाइटेनियम एनोड का इस्तेमाल किया जाए तो इन समस्याओं से बचा जा सकता है। ऑक्सीजन के विकास के लिए टाइटेनियम एनोड का कार्यशील वोल्टेज कम है, इसलिए यह ऊर्जा भी बचा सकता है।

टाइटेनियम एनोड्स का उपयोग करने का एक अन्य लाभ यह है कि टाइटेनियम सबस्ट्रेट्स का पुन: उपयोग किया जा सकता है। जब टाइटेनियम एनोड कोटिंग का सेवा जीवन अपने सेवा जीवन तक पहुंचता है, तो एनोडाइज्ड एल्यूमीनियम पन्नी आमतौर पर लिथोग्राफी उद्योग में उपयोग की जाने वाली सामग्री है। इसका कार्य सिद्धांत इलेक्ट्रोप्लेटिंग प्रक्रिया के समान है। आधार धातु की सतह पर धातु की बहुत पतली परत का लेप किया जाता है। एल्युमीनियम को एनोडिक अवस्था में रखने से एल्युमिनियम की सतह का ऑक्सीकरण हो जाएगा। एल्युमिनियम की एनोडाइजिंग (ऑक्सीकरण) प्रक्रिया के बाद, एल्युमीनियम की सतह को लिथोग्राफिक प्रिंटिंग उद्योग में आवश्यक सहज कोटिंग के साथ बेहतर तरीके से जोड़ा जा सकता है।

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