की प्रदर्शन आवश्यकताओं का विश्लेषणटाइटेनियम लक्ष्यविभिन्न उद्योगों में
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I. टाइटेनियम लक्ष्यों की बुनियादी प्रदर्शन आवश्यकताएँ
① शुद्धता: लक्ष्य सामग्रियों के मुख्य प्रदर्शन संकेतकों में से एक के रूप में, शुद्धता का पतली फिल्मों के प्रदर्शन पर महत्वपूर्ण प्रभाव पड़ता है। व्यावहारिक अनुप्रयोगों में, लक्ष्य शुद्धता की आवश्यकताएं उद्योग से उद्योग में भिन्न होती हैं। उदाहरण के लिए, माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उद्योग में, सिलिकॉन वेफर आकार में निरंतर वृद्धि और तारों की चौड़ाई में निरंतर कमी के साथ, लक्ष्य शुद्धता की आवश्यकताएं भी बढ़ रही हैं। अतीत में, 99.995% लक्ष्य शुद्धता 0.35um आईसी की प्रक्रिया आवश्यकताओं को पूरा कर सकती थी, लेकिन अब 0.18um लाइनों की तैयारी के लिए लक्ष्य शुद्धता को 99.999% या यहां तक कि 99.9999% तक पहुंचने की आवश्यकता है।
② अशुद्धता सामग्री: लक्ष्य ठोस में अशुद्धियाँ और छिद्रों में ऑक्सीजन और जल वाष्प जमा फिल्मों के लिए प्रदूषण के मुख्य स्रोत हैं। इसलिए, विभिन्न उद्देश्यों के लिए लक्ष्यों में अशुद्धता सामग्री के लिए अलग-अलग आवश्यकताएं होती हैं। उदाहरण के लिए, अर्धचालक उद्योग में उपयोग किए जाने वाले शुद्ध एल्यूमीनियम और एल्यूमीनियम मिश्र धातु लक्ष्यों में क्षार धातु सामग्री और रेडियोधर्मी तत्व सामग्री के लिए विशेष आवश्यकताएं होती हैं।
③ घनत्व: लक्ष्य ठोस में छिद्रों को कम करने और थूक वाली फिल्म के प्रदर्शन में सुधार करने के लिए, लक्ष्य को आमतौर पर उच्च घनत्व की आवश्यकता होती है। लक्ष्य सामग्री का घनत्व न केवल स्पटरिंग दर को प्रभावित करता है, बल्कि फिल्म के विद्युत और ऑप्टिकल गुणों को भी प्रभावित करता है। इसके अलावा, लक्ष्य सामग्री के घनत्व और ताकत में सुधार से स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान थर्मल तनाव का बेहतर सामना किया जा सकता है। इसलिए, घनत्व भी लक्ष्य सामग्री के प्रमुख प्रदर्शन संकेतकों में से एक है।
④ अनाज का आकार और अनाज के आकार का वितरण: लक्ष्य सामग्री आमतौर पर एक पॉलीक्रिस्टलाइन संरचना होती है, और अनाज का आकार माइक्रोन से लेकर मिलीमीटर तक हो सकता है। समान लक्ष्य सामग्री के लिए, बारीक अनाज वाले लक्ष्य की स्पटरिंग दर आमतौर पर मोटे अनाज वाले लक्ष्य की तुलना में तेज़ होती है; और अनाज के आकार में छोटे अंतर (समान वितरण) के साथ लक्ष्य के स्पटरिंग द्वारा जमा की गई फिल्म की मोटाई का वितरण अधिक समान होता है।
2. विभिन्न उद्योगों में टाइटेनियम लक्ष्यों के लिए शुद्धता की आवश्यकताएं
① एकीकृत सर्किट में उपयोग किए जाने वाले टाइटेनियम लक्ष्य: फिल्म के प्रदर्शन और स्थिरता को सुनिश्चित करने के लिए एकीकृत सर्किट में टाइटेनियम लक्ष्यों के लिए अत्यधिक उच्च शुद्धता की आवश्यकता होती है, जो आमतौर पर 99.995% से अधिक होती है।
② फ्लैट पैनल डिस्प्ले में उपयोग किए जाने वाले टाइटेनियम लक्ष्य: फ्लैट पैनल डिस्प्ले में लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, प्लाज्मा डिस्प्ले, इलेक्ट्रोल्यूमिनसेंट डिस्प्ले और फील्ड उत्सर्जन डिस्प्ले शामिल हैं। ये डिस्प्ले अक्सर विनिर्माण प्रक्रिया के दौरान पतली फिल्मों को जमा करने के लिए स्पटरिंग कोटिंग तकनीक का उपयोग करते हैं। उनमें से, टाइटेनियम लक्ष्य, महत्वपूर्ण स्पटरिंग लक्ष्यों में से एक के रूप में, आमतौर पर 99.9% से अधिक की शुद्धता की आवश्यकता होती है। इसके अलावा, टाइटेनियम लक्ष्यों का व्यापक रूप से इलेक्ट्रॉनिक्स, सूचना उद्योग, गृह सजावट और ऑटोमोटिव ग्लास विनिर्माण जैसे उच्च तकनीक क्षेत्रों में भी उपयोग किया जा सकता है। इन उद्योगों में, टाइटेनियम लक्ष्य का उपयोग मुख्य रूप से एकीकृत सर्किट, फ्लैट पैनल डिस्प्ले, या सजावट और ग्लास कोटिंग के रूप में किया जाता है। टाइटेनियम लक्ष्यों के प्रदर्शन और शुद्धता को अनुकूलित करके, फिल्म प्रदर्शन और स्थिरता के लिए विभिन्न उद्योगों की आवश्यकताओं को पूरा किया जा सकता है।
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